相位掩模版
- 類(lèi)型相位掩模版
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相位掩膜版(Phase Mask)是刻寫(xiě)光纖光柵(Fiber Bragg Grating, FBG)的核心工具,其通過(guò)干涉原理將周期性結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到光纖纖芯中,形成折射率調(diào)制,從而制作我們需要的光纖光柵...
我們生產(chǎn)的型號(hào)為OEPMP-100的相位掩模版長(zhǎng)度可達(dá)150毫米,用于光纖布拉格光柵的制作。我們的相位掩模產(chǎn)品包括均勻的,啁啾的,相移的,長(zhǎng)相位掩模和樣品相位掩模,在DWDM濾波器,光纖傳感器,色散補(bǔ)償,增益平坦,激光二極管穩(wěn)定器,波導(dǎo)等方面應(yīng)用。我們的產(chǎn)品覆蓋范圍從300nm到5000nm的光柵周期。我們獨(dú)特的制造技術(shù)保證了超高的精度周期,非常低的零階和非常高的均勻性,可與全息相位掩模相媲美
相位掩模版的類(lèi)型:
多陣列相位掩模版: 用于DWDM光纖光柵,光柵陣列的制作
多相移相位掩模版: 在一個(gè)單相掩模中,最多可以實(shí)現(xiàn)300個(gè)相移
多位置相位掩模版: 用于傳感器,波導(dǎo)和多波長(zhǎng)光纖光柵的制造
長(zhǎng)相位掩模版: 各種類(lèi)型的相位掩模版長(zhǎng)度可達(dá)150mm
啁啾相位掩模版: 用于線(xiàn)性啁啾,非線(xiàn)性啁啾及正弦啁啾光纖光柵的制作
不同照明波長(zhǎng): 248 nm, 193 nm, 530 nm, 800 nm…
特征:
周期的精密度可達(dá) 1pm
零級(jí) < 5%
長(zhǎng)度可達(dá) 150mm
最小周期可達(dá)100nm
均勻的,啁啾的和相移的
對(duì)193 nm, 244 nm, 248 nm, 266 nm, 365 nm, 530 nm, 800 nm的光照進(jìn)行優(yōu)化
低價(jià)格
相位掩模版的新產(chǎn)品:
1.多相位掩模陣列用于制作4通道、8通道或16通道的DWDM光纖光柵,無(wú)需改變相位掩模。 它們?cè)谝粋€(gè)基板上具有不同周期的 2、4、8、16 個(gè)相位掩模。 多相掩模陣列使光纖光柵制造的設(shè)備非常簡(jiǎn)單。在不改變相位掩模的情況下,可以在一個(gè)設(shè)備中制作光纖光柵濾波器的 4 到 16 個(gè)通道。在寫(xiě)入大量光柵時(shí),這種方法可以節(jié)省時(shí)間和金錢(qián)。 當(dāng)在單根光纖中寫(xiě)入多個(gè)不同波長(zhǎng)的光柵時(shí),它特別有用。
2. 多相移相位掩膜是一種具有多達(dá) 200 個(gè)相移的相位掩模。 它為光纖工程師提供了極大的相位掩模設(shè)計(jì)自由度。 多相移掩??梢耘c啁啾相位掩模和均勻相位掩?;蛏踔羶烧叩慕M合結(jié)合。
3.多位置相位掩模是具有水平方向、垂直方向或兩者相結(jié)合的相位掩模陣列。例如,如果陣列的每個(gè)光纖布拉格光柵都需要在光纖上進(jìn)行高精度定位,則多位置相位掩模可以解決每個(gè)相位掩模與光纖之間的對(duì)準(zhǔn)問(wèn)題,并為您提供最佳解決方案。 如果您想制造多波長(zhǎng)光纖激光器,多位置相位掩模還可以使您在此光纖激光器制造過(guò)程中的工作更加輕松。
產(chǎn)品型號(hào): OEPMP-100
圖1. 用于光纖光柵制作的不同長(zhǎng)度的相位掩模版
本產(chǎn)品為代售產(chǎn)品,由O-Eland 公司生產(chǎn).
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